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産業衛生試験

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所在地

SEMI S2"半導体製造装置の環境、健康、安全に関するガイドライン"22章"排気換気"、23章"化学物質"に基づき、装置通常稼動時およびメンテナンス時における化学物質やプロセス副生成物の人体暴露レベルの調査試験を行います。

産業衛生試験の主な目的

■	装置通常稼動時およびメンテナンス時の作業者安全確認

■	メンテナンス作業マニュアルの改善メンテナンス作業時の作業者呼吸雰囲気分析結果により許容量オーバーの検知が認められた場合のメンテナンスマニュアル見直しの根拠となります。

S2に適合するには

・	装置通常稼働下において、作業者呼吸雰囲気への化学物質の放出は職場被曝レベル（OEL）の1%未満であることの実証が要求されます。

・	装置メンテナンス下において、作業者呼吸雰囲気への化学物質の放出は職場被曝レベル（OEL）の25%未満であることの実証が要求されます。

実績

・	件数 21件

・	装置メーカー 7社

・	対象装置減圧CVD、プラズマCVD、プラズマエッチャー、イオン注入装置、CMP装置、マスクリペアウェットステーション等（'03.10現在）