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業務内容
 
装置安全性診断 …プロセス排気ガス分析…
 
SEMI S2"半導体製造装置の環境、健康、安全に関するガイドライン"23章"化学物質"に基づき、現地にて装置より排出されるプロセス副生成物・排気系統排出物の確認を行います。また、結果に基づいた適正な排気ガス除害装置の御提案も可能です。
 
プロセス排気ガス分析の主な目的
合理的な排気システムの設計
排気ガス処理装置の最適化
ガス漏洩検知システムの最適化
部品材料(配管・バルブ等)の最適化
プロセス条件の検討材料として
PFC排出量の削減
法律・基準の遵守
   
つまり…保安、環境保護、コストリダクションのため

赤外分光光度計(FT-IR)による分析の利点
多成分素同時分析・成分濃度経時変化の確認が可能
多成分を一度に分析することが可能であり、プロセスと平行して各プロセス排気成分濃度の経時変化を目視にて確認することができます。
SEMATECH PROTOCOLに基づいた分析も可能
SEMATECHが推奨するFT-IRを用いたプロセス排気ガス分析手法"Guidelines for Environmental Characterization of Semiconductor Equipment"に則った分析が可能です。

S2に適合するには
SEMI S2において、装置製造者はプロセスのベースラインレシピについて排気ガス成分(使用される物質、反応生成物、予想副生成物)を特定する目録作成が求められています。

実績
件数 32件
装置メーカー 6社
対象装置

減圧CVD、プラズマCVD、プラズマエッチャー、除害処理装置等
('03.10現在)
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