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横浜研究所
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所在地
横浜研究所
住所: 〒246-0007
神奈川県横浜市瀬谷区
目黒町29-4
TEL: 045-921-2143
FAX: 045-921-8947
MAIL: labo@tomoeshokai.co.jp
横浜研究所アクセスマップ
History
 
昭和43年 横浜市鶴見区(現在のトモエプロパン横浜)に研究所開設。
主に酸化エチレンを用いた滅菌の条件を求める実験を行う。
45年 森が崎(現在の東京都大田区大森南)のガスターミナルに研究所移転。
滅菌後の衛生試験業務、ガスクロマトグラフィの導入によるガス純度及び
酸化エチレンガスの残留濃度測定等の分析業務が本格化する。
59年 東京都大田区大森南のジャパンガス大森工場に研究所(プレハブ建物)移転。
ガスターミナルの改修により移転する。
排ガス処理システムの開発が始まる。
60年 東京都大田区東糀谷の羽田営業所(当時:現TBプラザ)に研究所移転。
排ガス処理システムのデモンストレーションの必要性が増し移転する。
最新のガスクロマトグラフィ等の導入が始まり分析業務が充実し始める。
排ガス処理システムのデモンストレーションが本格化する。
61年 横浜市瀬谷区(現在地)に新設移転。横浜研究所旧棟完成。 これを機に横浜研究所と改称。
研究部門、主に分析業務や排ガス処理システム等の開発業務の重要性が増し、研究所の整備・拡充が必要となる。昭和61年に新規購入した現在地に建設を開始、同年 旧棟(簡易クリーンルームを備えた2階建ての施設)が完成する。また新鋭の分析機器を導入し、分析機器を客先に持ち込み分析を行う出張分析が活発化する。平成元年にはAPI‐MSを導入しppbオーダーでの超高純度バルクガス中極微量不純物測定を開始する。
平成2年 横浜研究所新棟完成。
横浜研究所旧棟完成に伴い、見学や純度分析の依頼に訪れるユーザーの数はさらに増大する。そのため平成元年に増設工事を開始し平成2年 新棟(本格的なクリーンルームを備えた4階建ての施設)が完成する。半導体メーカーの依頼により各種材料ガスの混合実験や評価分析の業務が開始する。
 
[近年の主な沿革]
平成5年 ICP-MSを導入しppb-wtオーダーでの微量金属分析を開始する。
7年 CVD装置のトレーサーガステストを手始めとしSEMI STANDARDに準拠した各種装置安全性診断を開始する。
9年 フラッシュメモリ製造に不可欠であったオキシナイトライドプロセスに対応し、半導体向けとしては世界初となるNOx除害装置を開発する。
12年 SEMATECプロトコルに準拠した排気分析を開始する。
東京農工大学 関名誉教授を顧問に迎える。
13年 乾式除害装置向け高性能水素化物用処理剤TC-X II の開発に成功し、安全性ならびに処理性能が飛躍的に向上する。
16年 横浜研究所を厚生労働省に作業環境測定機関(特定化学物質、金属)として登録(第14-87号)、作業環境測定事業を開始する。
17年 横浜研究所を計量証明事業所(濃度)として神奈川県に登録(第172号)、環境計量事業を開始する。
作業環境測定機関として新たに有機溶剤を追加登録する。
 
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