リンデガス社製品
エキシマレーザーガス
- KrF プレミックスガス（Ne＋F2＋Kr）
- ArF プレミックスガス（Ne＋F2＋Ar）（Ne＋F2＋Ar＋He）
- XeCL プレミックスガス（He／Ne＋HCL＋Xe）
混合比率によっては特殊ガス課で在庫しています。その他御希望混合等はお問い合わせ下さい。
エキシマレーザーとは？
エキシマレーザーとは、Excited Dimer Laserの略称です。特性として、強い紫外領域のレーザーが得られることが挙げられます。CO2レーザーなどの赤外線レーザーと異なり、熱を発生しないためにより鋭利で、微細な加工が可能になります。
チャンバー内にハロゲン（フッ素、塩化水素）、レア（Kr、Ar、Xe等）、バッファー（Ne、He等）の混合ガスを封入した状態で、放電を行います。すると電気の力で励起（Excited）されて、レア・ハロゲン二量体が生成（Dimer)します。しかしこの状態は不安定のため、本来のレアとハロゲンの形（基底状態）に速やかに移行します。その際、電気で得たエネルギーを紫外光に変換して放出します。これがエキシマレーザーと呼ばれるものです。放電1回につき1回しか発信されないため、連続して放電を繰り返すことによって、ある程度連続したレーザーを得られることができます。この時の封入ガスのレア・ハロゲンの組み合わせにより、得られるレーザー波長が変わります。基本的には波長が短いほどレーザーのエネルギーは強くなり、より微細な加工が可能になっていきます。
- XeCL 308nm
- KrF 248nm
- ArF 193nm
- F2 157nm
エキシマレーザーの用途
- 工業用途
半導体露光用：KrF、ArF、F2
シリコンウェハー上に塗布されたレジスト膜にエキシマレーザーが作用し、回路を焼き付けます。基本的に短波長であるほど微細で、複雑な回路を形成できます。
アニーリング用：XeCL
液晶パネルのアニーリング工程に於いて、液晶パネル表面の分子組成の改変を行います。その為、多くの液晶メーカーで採用されています。
各種微細加工用：KrF、ArF
エキシマレーザーの特性を利用したもので、インクジェット式プリンターの穴開け工程、極小ラベリング等に採用されています。
ファイバーグレーチング：KrF
光ファイバーの内面改質に使用するため、多くのファイバーメーカーで採用されています。
薄膜生成：KrF
エキシマレーザー加工が微細であることから、逆に微細な粒子が生成されます。この粒子を均一に堆積させることによって薄膜を生成します。
- 医療用途
近視治療用：ArF
眼球表面の角膜をエキシマレーザーによって研磨・矯正することにより、近視、乱視を治療します。
米国、韓国では既に一般的な治療方法として確立されています。その他
血管内の血栓除去への応用、歯科治療や、皮膚表面のシミ取りに利用されたりしています。まだ、多くは普及していませんが、エキシマレーザーの特性を活かした利用方法の研究が続けられています。
高純度ガス
希ガス（レアガス）
Ne（ネオン）
純度：99.99％～99.999％以上
通常在庫品（99.999％）： 2000L入（16L型）、6370L入（49L型）Kr（クリプトン）
純度：99.9％～99.999％以上
通常在庫品（99.999％）： 100L入（2.8L型）、500L入（16L型）、2000L入（16L型）Xe（キセノン）
純度：99％～99.999％以上
通常在庫品（99.999％）： 50L、100L、200L入（各2.8L型）
その他ガス
CH2F2
1.半導体グレード（純度：99.999％）
2.CPグレード（純度：99.9％）CO
1.半導体グレード（純度：99.997％）
2.リサーチグレード（純度：99.99％）
環境測定用標準ガス
- TO-14
1.39～43成分
2.芳香族（Aromatic）
3.反応性ガス（Reactive）
4.調整用 - SG-HAPs9（優先対応物質：9成分）
- オゾンモニター（PAMS：55成分）
- 内部調整用ガス（1～3種）
- 水銀（Hg 10～60ug／m3）
環境測定用標準ガスの用途
大気環境汚染、土壌汚染、水質汚染、室内環境汚染、PRTR法等に伴う分析において、分析装置の校正に使用されます。溶媒希釈による校正も可能ですが、標準ガスならではの取り扱いが作業性効率を高めています。EPA（米国環境保護庁）指針が発端となり促進され、日本国内でも整備が進んでいます。
関連機器
- 圧力調整器、ハロゲンフィルター、簡易緊急除害装置
詳細については別途お問い合わせ下さい。
関連情報
Linde plc
